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高端SIP封装为何青睐AIN与LTCC?陶瓷基板技术全景透视

172 2025-11-26

在追求电子产品极致轻薄、多功能与高性能的今天,系统级封装(SIP)技术已成为实现这一目标的关键路径。它将多个功能各异的有源芯片、无源元件乃至微机械结构整合于单一封装体内,形成一个功能完备的子系统。然而,集成度的飞跃也带来了散热、信号完整性与机械可靠性的严峻挑战,其中,作为电路支撑与绝缘核心的基板材料,其性能优劣直接决定了SIP方案的成败,下面由深圳金瑞欣小编来为大家讲解一下:

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一、SIP对基板材料的核心性能诉求

理想的SIP基板材料需扮演多重角色,是结构支撑、电气互联与热能管理的交汇点。其核心要求可归纳为以下几点:


卓越的高频电学性能:为保障信号高速、低损耗传输,基板必须具备低介电常数(Dk) 与低介电损耗(Df)。低Dk能加速信号传播,而低Df则能有效减少传输过程中的能量损耗,避免器件自身发热导致的性能劣化。


高效的热管理能力:SIP内部功率密度激增,热量若无法及时导出,将导致芯片结温升高、性能衰退乃至失效。因此,高热导率是基板材料的必备特性。同时,其热膨胀系数(CTE) 必须与所承载的芯片(如Si、GaAs)相匹配,否则在温度循环中产生的热应力会引发焊点开裂、界面剥离等致命故障。


可靠的机械与工艺性能:陶瓷基板需要具备足够的机械强度与刚度,以支撑整个结构,并在制造、组装及使用过程中抵抗形变与破裂。此外,良好的可加工性、高尺寸稳定性以及与金属化工艺的兼容性也至关重要。

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二、SIP的陶瓷基板解决方案:从传统到创新

陶瓷材料因其优异的综合性能,成为高端SIP应用的优选。传统的Al?O?(氧化铝)虽成本低廉,但热导率有限且CTE匹配性一般;BeO(氧化铍)性能出色但具有毒性,限制了其应用。为满足现代电子技术的需求,新一代先进陶瓷材料应运而生。


1. 氮化铝(AIN):高功率散热的理想选择


AIN陶瓷堪称SIP,尤其是高功率密度应用的“散热利器”。其核心优势在于:


极高的热导率 [可达170-200 W/(m·K)],远超Al?O?,能迅速将芯片产生的热量传导至外壳散发。


与半导体芯片近乎完美的CTE匹配(约4.2×10??/°C),显著提升了封装的温度循环可靠性。


同时兼具良好的绝缘性、较高的机械强度与适中的介电性能。


这使得AIN成为大功率LED、激光器、微波射频模块等发热量巨大场景下的首选基板材料。


2. 低温共烧陶瓷(LTCC):系统集成与高频应用的平台


LTCC技术代表的不仅是一种材料,更是一种强大的三维集成工艺。它在低于1000°C的温度下将多层陶瓷生坯与导体(如Au、Ag、Cu)共同烧结,形成高密度互连的三维结构。其独特优势在于:


无与伦比的集成灵活性:可以在内部埋置电阻、电容、电感等无源元件,形成复杂的嵌入式电路,大幅减少外部元件数量,提高组装密度和系统可靠性。


卓越的高频性能:可选用低损耗配方,并利用高电导率导体进行布线,非常适用于射频、微波及毫米波电路。


优异的设计自由度:材料的介电常数可通过配方在一定范围内灵活调整,并可制作空腔等复杂结构,为电路设计者提供了广阔的创新空间。


良好的热性能与匹配性:LTCC本身具有一定热导率,且其CTE可与主要半导体材料良好匹配。


三、未来展望:复合化与功能一体化


面对日益复杂的应用需求,单一材料的性能边界逐渐显现。未来,电子封装材料的发展必将走向多相复合与功能一体化。例如,在需要极高局部散热的区域引入AIN或金属凸块,与提供布线的LTCC或有机基板结合,形成优势互补的复合结构。这种“各取所长”的策略,将是推动SIP技术迈向更高集成度、更高性能和更广泛应用的关键驱动力。


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